特許
J-GLOBAL ID:200903009573619997
純水製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
柳原 成
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-243407
公開番号(公開出願番号):特開平6-091263
出願日: 1992年09月11日
公開日(公表日): 1994年04月05日
要約:
【要約】【目的】 半導体製造排水と工業用水を混合して、イオン交換および膜分離処理により純水を製造する際、膜分離装置のスケール化による処理水量および処理水質低下を防止する。【構成】 半導体製造排水11をアニオン交換塔3においてアニオン交換した後、工業用水15と混合し、混合原水をカチオン交換塔6およびアニオン交換塔8でイオン交換するとともに、膜分離装置10において膜分離して純水を製造する方法。
請求項(抜粋):
半導体製造排水をアニオン交換した後、工業用水と混合し、混合原水をイオン交換および膜分離処理することを特徴とする純水製造方法。
IPC (5件):
C02F 1/44
, B01D 61/04
, B01D 61/16
, C02F 1/42
, C02F 9/00
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭62-087299
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特開昭58-055083
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