特許
J-GLOBAL ID：200903009587548995
光学薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-318943
公開番号（公開出願番号）：特開平7-150356
出願日： 1993年11月25日
公開日（公表日）： 1995年06月13日
要約：
【要約】【目的】 液体を使わずに多孔質の光学薄膜を製造する。【構成】 合成石英基板の表面にSiO2 とMgF2 の混合膜を真空蒸着によって成膜したうえで、CF4 のガスプラズマを用いたガスプラズマエッチングによってSiO2 を除去し、MgF2 の多孔質膜を製造した。製造された多孔質膜の屈折率は1.28であり、多孔質でないMgF2 膜に比べて大きく低下しており、またレーザ耐力も大幅に向上した。
請求項（抜粋）：
基板の表面に複数の物質からなる混合膜を成膜する工程と、成膜された混合膜にガスを接触させ、その化学反応によって前記複数の物質のうちの少くとも1つを除去する工程を有することを特徴とする光学薄膜の製造方法。
IPC (4件)：
C23C 14/58
, B29D 11/00
, C23C 14/02
, G02B 1/11
