特許

J-GLOBAL ID：200903009598633609

人工低透水層の構築方法

発明者： 清水 孝昭 ,  田屋 裕司 ,  平井 芳雄 ,  青木 雅路 ,  森 国光 ,  奥田 信康
出願人/特許権者： 株式会社竹中工務店
代理人 (1件)： 山名 正彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-373112
公開番号（公開出願番号）：特開2003-171940
出願日： 2001年12月06日
公開日（公表日）： 2003年06月20日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 地下水位が高い砂地盤又は砂礫地盤における大深度の地下工事に際し、地下水位低下工法の一種として採用される人工低透水層の構築方法を提供する。【解決手段】 施工対象地盤の一方に注水井戸3Aを設置し、他方に揚水井戸3Bを設置する。注水井戸から少なくとも2種の水溶液X,Yを同時に若しくは別々に地盤中へ注入し、揚水井戸からは揚水を行い、地盤中に局所的な動水勾配を形成して地下水流れを生じさせ浸透を促進させる。地盤中で前記2種の水溶液を接触させ反応させることによって地盤中に微細で水に難溶性の析出物を生成させ地盤の透水性を低下させる。

請求項（抜粋）：

透水性の砂地盤又は砂礫地盤中に少なくとも2種の水溶液を注入し浸透させて反応させ、地盤中に微細粒を生成させて人工低透水層を構築する方法において、施工対象地盤の一方に注水井戸を設置し、他方に揚水井戸を設置すること、前記注水井戸から少なくとも2種の水溶液を、同時に若しくは別々に地盤中へ注入し、揚水井戸からは揚水を行い、地盤中に局所的な動水勾配を形成して地下水流れを生じさせ浸透を促進すること、地盤中で前記2種の水溶液を接触させ反応させることによって地盤中に微細で水に難溶性の析出物を生成させ地盤の透水性を低下させることを特徴とする、人工低透水層の構築方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 人工難透水層の構築方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-243780   出願人：大成建設株式会社
• 地盤の止水剤及び地盤の止水方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-277374   出願人：三菱マテリアル株式会社
• 薬液注入工法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-205228   出願人：株式会社大林組, 東亞合成株式会社