特許
J-GLOBAL ID:200903009601395250

シリコンを含有する基板とバリア層とを有する物品及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 正剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-115745
公開番号(公開出願番号):特開2000-343642
出願日: 2000年04月17日
公開日(公表日): 2000年12月12日
要約:
【要約】【課題】 シリコンを含有する基板と環境的/熱的保護バリアコーティング層として機能するバリア層とを有した物品及びその製造方法を提供する。【解決手段】 シリコンを含有する基板と、バリア層と、を有する物品を提供する。ここで、バリア層は、前記物品が高温で水分の存在する条件にさらされたときにガス状Si化合物の形成を防ぐものである。好適には前記基板は、シリコン含有セラミックとシリコン含有金属合金とから選択される。
請求項(抜粋):
シリコンを含有する基板と、バリア層と、を有する物品であって、前記バリア層は、前記物品が高温で水分の存在する条件にさらされたときにガス状Si化合物の形成を防ぐものであることを特徴とする物品。
IPC (4件):
B32B 15/04 ,  B05D 5/00 ,  B05D 7/24 303 ,  B32B 18/00
FI (4件):
B32B 15/04 B ,  B05D 5/00 Z ,  B05D 7/24 303 B ,  B32B 18/00 B
引用特許:
審査官引用 (1件)

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