特許

J-GLOBAL ID：200903009608212534

処理液の滴下方法

発明者： 斉藤 誠吉
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-179800
公開番号（公開出願番号）：特開平8-024621
出願日： 1982年07月09日
公開日（公表日）： 1996年01月30日
要約：

【要約】【目的】注入管の末端から処理液が凝固するのを防止する。【構成】処理液を吐出するノズル31に接続する注入管11と、該注入管11を上記ノズル31迄覆うコネクタ29と、該コネクタ29に接続するチューブ28より構成される吐出部分を用い、上記注入管11に、サックバック用ベローズを介して、収容容器から送られて来る処理液を供給し、上記チューブ28から上記コネクタ29に温調された液体を供給することにより、上記注入管11内の処理液を所定の温度に保ち、上記サックバック用ベローズを開くことにより、上記注入管11内の処理液をウエーハに滴下する。【効果】上記吐出部分から処理液を常に安定して滴下することができる。また、上記吐出部分から滴下する処理液の量をサックバック用ベローズの開け閉めにより、正確にコントロールすることができる。従って、ウエーハ上に塗布されるフォトレジストの膜厚を、各ウエーハ間で、均一にすることができる。

請求項（抜粋）：

処理液を吐出するノズルに接続する第1の管と、該第1の管を覆う第2の管と、上記ノズルの近傍で該第2の管に接続する第3の管より構成される吐出部分を用い、上記第2の管内に温調された液体を供給しながら、上記処理液の容器から上記第1の管内に送られて来る処理液を被加工物に間欠的に滴下することを特徴とする処理液の滴下方法。

IPC (2件)：

B01J 4/02 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭48-021071
  
• 特開昭52-009672