特許
J-GLOBAL ID：200903009609474753
走査型露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-156980
公開番号（公開出願番号）：特開平8-022948
出願日： 1994年07月08日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：
【要約】【目的】 ウエハステージの位置計測用のレーザ干渉計に対する空気の揺らぎの影響を低減させる。【構成】 ウエハ6をウエハXステージ10上に保持し、ウエハXステージ10をウエハYステージ9上にX方向に移動自在に載置し、ウエハYステージ9をスキャンステージ8上にY方向に移動自在に載置し、スキャンステージ8をY方向に移動自在に装置ベース7上に載置する。ウエハXステージ10、及びウエハYステージ9を用いて、ウエハ6の各ショット領域を走査開始位置に位置決めした後、スキャンステージ8を+Y方向又は-Y方向に走査して露光を行う。スキャンステージ8の位置をレーザ干渉計26〜28等を用いて計測する。
請求項（抜粋）：
転写用のパターンが形成されたマスクを照明し、前記マスクを第1の方向に走査するのと同期し感光性の基板を第2の方向に走査することにより前記マスクのパターンを逐次前記基板上の各露光領域に露光する走査型露光装置において、前記基板を該基板の露光面に平行な2次元平面上で位置決めする位置決め用基板ステージと、該位置決め用基板ステージの2次元的な位置を計測する位置計測手段と、走査露光の際に前記基板を前記第2の方向に走査する走査用基板ステージと、該走査用基板ステージの前記第2の方向の位置を計測する干渉計と、を備えたことを特徴とする走査型露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
