特許
J-GLOBAL ID：200903009619118971
投影露光システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-352226
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166699
出願日： 1991年12月13日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【目的】 複数の投影露光装置を混用した場合に、各装置間でのディストーションに関するマッチングを高精度に行う。【構成】 レチクル11-1のパターン像をウェハ14上に露光する投影光学系18-1と、投影光学系18-1の歪曲を測定する主制御装置13-1と、投影光学系18-1の歪曲の状態を補正する圧力調整器19-1とをそれぞれ有する複数の投影露光装置10-1〜10-nにより露光を行う。集中管理用コンピュータ9により、ウェハ14が以前に露光された投影光学系の歪曲の状態に近づくように、今回露光する投影光学系の歪曲の状態を設定する。
請求項（抜粋）：
マスクパターンの像を感光基板上に露光する投影光学系と、該投影光学系の歪曲を予測又は測定する歪曲計測手段と、外部からの制御情報により前記投影光学系の歪曲の状態を補正する補正手段とをそれぞれ有する複数の投影露光装置と、前記複数の投影露光装置のそれぞれの前記投影光学系の歪曲の状態を表すデータを収集し、前記感光基板と前記複数の投影露光装置との対応の履歴を記憶し、前記複数の投影露光装置に個別に前記投影光学系の歪曲の状態を指示する制御情報を供給する中央処理装置とを有し、該中央処理装置は、前記複数の投影露光装置のそれぞれにおいて、前記感光基板が以前に露光された前記投影光学系の歪曲の状態に近づくように、今回露光する前記投影光学系の歪曲の状態を設定する事を特徴とする投影露光システム。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
