特許
J-GLOBAL ID：200903009634919182
回り止め装置、同装置に対する加圧流体の供給方法、及び倣い装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
恩田 博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-254580
公開番号（公開出願番号）：特開2001-135707
出願日： 2000年08月24日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】凹状半球面を有する基台に、回動可能に支持されている凸状半球面を有する揺動体からなる倣い装置において揺動体の倣い精度を向上すること。【解決手段】固定ケーシング26と可動ケーシング27との間に生じる静圧によって、各エア供給口36と各エア導入口29とが非接触状態をとりながら、加圧エアがエア通路30に供給され続ける。
請求項（抜粋）：
対象物の特定面に当接して同特定面と平行に倣う揺動部材の回動を規制する回り止め装置において、同一平面において互いに直交するX軸及びY軸、その両軸を含む平面に対して直交するZ軸のうち、Y軸及びZ軸のみ移動可能な第1可動体を固定基材に設け、X軸及びZ軸のみ移動可能な第2可動体を前記第1可動体に設け、X軸方向における前記固定基材と前記第1可動体との間に静圧をもたらす加圧流体を供給するための第1加圧流体供給手段を設け、Y軸方向における前記第1可動体と前記第2可動体との間に静圧をもたらす加圧流体を供給するための第2加圧流体供給手段を設け、前記両加圧流体供給手段のうち少なくとも第2加圧流体供給手段に加圧流体を通すための流体通路を前記第1可動体に設け、前記流体通路に連通する流体導入口に非接触状態で加圧流体を供給する第3加圧流体供給手段を設けたことを特徴とする回り止め装置。
引用特許：
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