特許
J-GLOBAL ID：200903009634971290
磁気ディスク用ガラス基板の処理方法および製造方法、並びに磁気ディスク
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (3件)：
阿仁屋 節雄
, 油井 透
, 清野 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-129483
公開番号（公開出願番号）：特開2006-221810
出願日： 2006年05月08日
公開日（公表日）： 2006年08月24日
要約：
【課題】 抗折強度が高く、経時破損も起こすことのない、HDDなどの磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスク等に好適なガラス基板を製造するための、磁気ディスク用ガラス基板の処理方法、および当該ガラス基板を用いた磁気ディスクを提供する。【解決手段】 リチウムイオンを含有するアモルファスなアルミノシリケートガラスからなるガラス基板を鏡面研磨した後、1度目の処理として、380°Cの硝酸ナトリウム溶融塩の処理剤へ当該ガラス基板を2時間浸漬し、2度目の処理として、380°Cの硝酸カリウム溶融塩の処理剤へ当該ガラス基板を2時間浸漬した後、洗浄して磁気ディスク用ガラス基板を得た。この磁気ディスク用ガラス基板上へ適宜な方法により、磁性層等を形成し、抗折強度が高く、LUL耐久性にも優れた磁気ディスクを得た。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
アルカリイオンを含有する磁気ディスク用ガラス基板を処理する処理方法であって、
前記磁気ディスク用ガラス基板に含有されるアルカリイオンのうち最も小さなイオン半径を有するものよりも、大きなイオン半径を有する第1のアルカリイオンを用いて前記磁気ディスク用ガラス基板を処理することにより、前記ガラス基板の表面に圧縮応力を形成するとともに前記ガラス基板の深部に引張り応力を形成し、その後、
前記第1のアルカリイオンよりも、大きなイオン半径を有する第2のアルカリイオンを用いて、前記ガラス基板の表面の前記圧縮応力がさらに大きくなるように且つ前記ガラス基板の深部の前記圧縮応力は緩和するように、前記磁気ディスク用ガラス基板を処理することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G11B5/84 Z
, C03C21/00 101
4G059AA09
, 4G059AC16
, 4G059HB03
, 4G059HB13
, 4G059HB14
, 5D112AA02
, 5D112BA03
, 5D112GA28
