特許
J-GLOBAL ID：200903009645327830
粉粒体処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-014665
公開番号（公開出願番号）：特開平7-047261
出願日： 1994年02月08日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：
【要約】【目的】 被処理物に対する気体の接触が部分的に不足気味となり、それによって、各種粉粒体処理が能率よく行われないことがある、という従来の問題を解消し得る手段を提供する。【構成】 回転円盤10を、ケーシング1の底部からの供給気体を受けてその気体を上向き又は斜め上向きに通気させる通気体に構成し、その通気体の上向き通気能力又は斜め上向き通気能力を外周側ほど大きく設定してある。
請求項（抜粋）：
粉粒体を貯留し、その貯留粉粒体に対して気体を接触させることを含む処理を行うための処理部を、円筒状のケーシング(1)の下部に形成すべく、上方空間が前記粉粒体の貯留部(A)となる回転円盤(10)を、前記ケーシング(1)下部における鉛直方向の回転軸芯周りに回転自在に設けてある粉粒体処理装置であって、前記回転円盤(10)を、前記ケーシング(1)の底部からの供給気体を受けてその気体を上向き又は斜め上向きに通気させる通気体に構成し、その通気体の上向き通気能力又は斜め上向き通気能力を外周側ほど大きく設定してある粉粒体処理装置。
IPC (7件)：
B01J 8/24 311
, B01J 2/00
, B01J 2/14
, B01J 2/16
, B01J 8/38
, B05C 19/02
, F26B 17/10
