特許

J-GLOBAL ID：200903009650725452

熱処理装置

発明者： 大加瀬 亘
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン東北株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-163081
公開番号（公開出願番号）：特開平8-008202
出願日： 1994年06月22日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：

【要約】【目的】 被処理体の移載室と処理室とを備えた熱処理装置において、処理室から移載室への処理ガスの流入を軽減して移載室側の金属腐食を抑えること。【構成】 例えば反応管2により形成された処理室の下方側に移載室34を設け、ウエハ保持部3にウエハWを保持して移載室34と処理室との間で昇降する装置の場合、左右に分割されたシャッタ6A、6Bを設け、ウエハ保持部3が移載室34に位置するときには一方のシャッタ6Aでウエハ保持部3の通路を塞ぐと共にウエハ保持部3が処理室内に位置するときにはシャッタ6A、6Bが昇降軸31に密接する。そしてウエハ保持部3の通路を囲むようにリング状のベローズ体4を設け、シャッタ6A、6Bが作動するときにはベローズ体が縮退し、シャッタ6A(6B)が通路を塞ぐ位置にあるときには伸長してこれに密接し、処理室と移載室とを気密に遮断する。

請求項（抜粋）：

処理室と、この処理室の下方側に通路部を介して設けられ、被処理体の移載を行うための移載室と、前記処理室と移載室との間で移動し、被処理体を保持するための被処理体保持部と、を有し、前記処理室内にて被処理体保持部に保持された被処理体を処理ガスを供給しながら熱処理する装置において、前記処理室と移載室との間に設けられ、通路を閉じる位置と開く位置との間で移動し、被処理体保持部が処理室内に位置している状態で通路を閉じたときには被処理体保持部の昇降軸の外周面に密接して処理室と移載室との雰囲気を気密に遮断するように分割されているシャッタと、前記通路部の壁部に通路を囲むように設けられ、上下方向に伸縮自在なシール用のベローズ体と、このベローズ体を伸縮させる伸縮機構と、を備え、前記ベローズ体が伸長したときに前記シャッタの表面に密接して処理室側と移載室側との雰囲気を気密に遮断するように構成したことを特徴とする熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/22 511 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-130192   出願人：東京エレクトロン東北株式会社
• 特開平2-065130