特許

J-GLOBAL ID：200903009658816139

反射型マスクおよびそれを用いたデバイスの製造方法

発明者： 老泉 博昭 ,  伊東 昌昭 ,  山梨 弘将 ,  鳥海 実 ,  寺澤 恒男
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-198355
公開番号（公開出願番号）：特開2000-031021
出願日： 1998年07月14日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：

【要約】【課題】マスクパターンの近接効果補正の設計を容易にする。【解決手段】反射部のパターンに応じて少なくとも部分的に反射率を変化させることにより、非反射部である遮光部または吸収体のマスクパターンの変更が必ずしも必要でなくなり、マスクパターンの光近接効果補正の設計が容易となる。

請求項（抜粋）：

反射部と非反射部からなるパターンを有する反射型マスクであって、反射部のパターンに応じて少なくとも反射部のパターンの一部分の反射率が変化していることを特徴とする反射型マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08

FI (4件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/08 K ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 517

Fターム (12件)：

2H095BA07 ,  2H095BA10 ,  2H095BB31 ,  2H095BB35 ,  2H095BC11 ,  5F046GD10 ,  5F046GD11 ,  5F046GD12 ,  5F046GD13 ,  5F046GD15 ,  5F046GD16 ,  5F046GD17