特許

J-GLOBAL ID：200903009659594113

構造化方法

発明者： ジークフリート シュワルツル ,  マンフレート エンゲルハルト
出願人/特許権者： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
代理人 (1件)： 山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-204410
公開番号（公開出願番号）：特開平11-111701
出願日： 1998年07月03日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：

【要約】【課題】 エッチングの選択性を高め、寸法精度を保持する構造化方法を提供する。【解決手段】 構造化すべき膜3を下地2の上に形成し、この構造化すべき膜3の上にマスクを形成し、構造化すべき膜3を反応物質の存在の下でドライエッチングし、ドライエッチングの間に反応物質とマスクおよび/または下地の材料がマスクおよび/または下地の表面において反応して不揮発性の化合物を形成する。

請求項（抜粋）：

構造化すべき膜を下地の上に形成し、この構造化すべき膜の上にマスクを形成し、構造化すべき膜を少なくとも1つの反応物質の存在の下でドライエッチングする方法において、前記ドライエッチングの間に反応物質とマスクおよび/または下地の材料がマスクおよび/または下地の表面において反応して不揮発性の化合物を形成することを特徴とする構造化方法。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/3213 ,  H01L 27/04 ,  H01L 21/822

FI (3件)：

H01L 21/302 F ,  H01L 21/88 D ,  H01L 27/04 C