特許

J-GLOBAL ID：200903009663537000

ポジ型レジスト組成物

発明者： 田中 公章 ,  金井 ひろみ
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-244144
公開番号（公開出願番号）：特開平6-067420
出願日： 1992年08月19日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：

【要約】【目的】 保存安定性及び微細パターン形成性に優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【構成】 下記一般式〔I〕で表される置換シクロアルカンを主成分とする溶媒を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。(式中、nは1〜8の整数であり、mは4〜11の整数である。)

請求項（抜粋）：

下記一般式〔I〕で表される置換シクロアルカンを主成分とする溶媒を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、nは1〜8の整数であり、mは4〜11の整数である。)

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027