特許

J-GLOBAL ID：200903009684457074

ポジ型ホトレジスト組成物

発明者： 大野 勇人 ,  河野 伸一 ,  徳竹 信生 ,  高橋 浩一 ,  小原 秀克 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-132484
公開番号（公開出願番号）：特開平6-324483
出願日： 1993年05月11日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：

【要約】【構成】 アルカリ可溶性樹脂及びキノンジアジド基含有化合物を、β型プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート溶剤単独又は該溶剤を主成分として含有する有機溶剤に溶解して成るポジ型ホトレジスト組成物である。【効果】 上記組成物は、ホトレジストの感光性成分の析出がなく、保存安定性に優れ、プロファイル形状の優れたレジストパターンを形成することができ、しかも極めて安全性に優れ、特に半導体素子製造分野において有効に用いられる。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂及びキノンジアジド基含有化合物を、β型プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート単独溶剤又はβ型プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートを主成分として含有する有機溶剤に溶解して成るポジ型ホトレジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027