着色レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡田数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-055517
公開番号（公開出願番号）：特開平10-239856
出願日： 1997年02月24日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】特殊なパターンマスクの使用を必須とせずに、台形状断面のプロフィルーを有する着色レジストパターンの形成方法および当該方法を利用したカラーフィルターの製造方法を提供する。【解決手段】黒色材料が分散された光重合性組成物を透明基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化の各処理を行ってブラックマトリクスを形成し、次いで、当該ブラックマトリクス形成面に、赤、緑、青の材料が各々分散された各光重合性組成物を塗布し、加熱乾燥、画像露光、現像、水洗および熱硬化処理の各処理を順次に行って各色の画素画像を形成してカラーフィルターを製造するに当たり、上記の各画像露光を異なるアライメントギャップで2回以上行う。

請求項（抜粋）：

着色材料が分散された光重合性組成物を透明基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化の各処理を行って着色レジストパターンを形成するに当たり、上記の画像露光を異なるアライメントギャップで2回以上行うことを特徴とする着色レジストパターンの形成方法。

IPC (5件)：

G03F 7/26 513 , G02B 5/20 101 , G02F 1/1335 505 , G03F 7/004 505 , G03F 7/20

FI (5件)：

G03F 7/26 513 , G02B 5/20 101 , G02F 1/1335 505 , G03F 7/004 505 , G03F 7/20

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