特許

J-GLOBAL ID：200903009709675845

プラズマによる超精密加工方法及びその装置

発明者： 江畑 裕介 ,  奥田 徹 ,  森 勇▲蔵▼
出願人/特許権者： シャープ株式会社 ,  森 勇藏
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-219348
公開番号（公開出願番号）：特開2001-044180
出願日： 1999年08月02日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：

【要約】【課題】 被加工物表面を高能率に加工することができるプラズマによる超精密加工方法及びその装置を提供する。【解決手段】 第1の反応ガス雰囲気中に配された被加工物をプラズマを用いて加工する精密加工方法は、反応ガスの低コンダクタンスな流路が構成されるように、被加工物Jに対向する壁面が形成され、反応ガスを低コンダクタンスな流路へ供給して、第2の反応ガス雰囲気を前記低コンダクタンスな流路に局所的に形成する第1ステップと、第2の反応ガス雰囲気中でプラズマPを発生させる第2ステップと、プラズマPにより第2の反応ガス雰囲気中の反応ガスを活性化して活性種を生成する第3ステップと、活性種と被加工物とを化学反応させて反応生成物を生成し、反応生成物を気化させて被加工物Jを加工する第4ステップとを包含する。

請求項（抜粋）：

第1の反応ガス雰囲気中に配された被加工物をプラズマを用いて加工する精密加工方法であって、反応ガスの低コンダクタンスな流路が構成されるように、前記被加工物に対向する壁面が形成され、前記反応ガスを前記低コンダクタンスな流路へ供給して、第2の反応ガス雰囲気を前記低コンダクタンスな流路に局所的に形成する第1ステップと、前記第2の反応ガス雰囲気中で前記プラズマを発生させる第2ステップと、前記プラズマにより前記第2の反応ガス雰囲気中の前記反応ガスを活性化して活性種を生成する第3ステップと、前記活性種と前記被加工物とを化学反応させて反応生成物を生成し、前記反応生成物を気化させて前記被加工物を加工する第4ステップとを包含するプラズマによる精密加工方法。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00

FI (2件)：

H01L 21/302 L ,  C23F 4/00 A

Fターム (27件)：

4K057DA04 ,  4K057DA20 ,  4K057DB08 ,  4K057DB20 ,  4K057DD01 ,  4K057DE06 ,  4K057DE14 ,  4K057DG12 ,  4K057DM08 ,  4K057DM29 ,  4K057DM40 ,  4K057DN01 ,  5F004AA11 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004BB14 ,  5F004BB18 ,  5F004BB28 ,  5F004BD07 ,  5F004DA00 ,  5F004DA22 ,  5F004DB00 ,  5F004DB01 ,  5F004DB08 ,  5F004DB10 ,  5F004EB02