特許
J-GLOBAL ID:200903009716341081
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
若林 邦彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-345349
公開番号(公開出願番号):特開2000-171971
出願日: 1998年12月04日
公開日(公表日): 2000年06月23日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 光感度、解像度、耐薬品性(耐めっき性)、密着性、機械強度及び柔軟性が優れた感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (A)カルボキシル基を有するバインダーポリマー、(B)特定の化合物を必須成分として含む、分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性不飽和化合物並びに(C)光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物。この感光性樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥し、場合によって保護フィルムを積層してなる感光性エレメント、この感光性エレメントを、場合によって存在する保護フィルムを剥がしながら、回路形成用基板上に感光性樹脂組成物層が密着するようにして積層し、活性光線を画像状に照射し、露光部を光硬化させ、未露光部を現像により除去することを特徴とするレジストパターンの製造法。
請求項(抜粋):
(A)カルボキシル基を有するバインダーポリマー、(B)一般式(I)【化1】(式中、R1、R2及びR3は各々独立に水素原子又はメチル基であり、A及びBは炭素数2〜6のアルキレン基であり、A及びBは各々相異なるものであり、m1、m2、m3、n1、n2及びn3は、m1+m2+m3が6〜45、n1+n2+n3が3〜45となるように選ばれる正の整数である)で表される化合物及び一般式(II)【化2】(式中R4及びR5は各々独立に水素原子又はメチル基を示し、X及びYは各々独立に炭素数2〜6のアルキレン基を示し、Z1及びZ2は各々独立にハロゲン原子、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、アミノ基又は炭素数1〜20のアルキル基で置換されていてもよいアリール基、アミノ基、メルカプト基、炭素数1〜10のアルキルメルカプト基、アルキル基の炭素数が1〜10のカルボキシアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基又は複素環を含む基を示し、p及びqはp+q=8〜40となるように選ばれる正の整数であり、s及びtは各々独立に1〜4の整数である)で表される化合物を必須成分として含む、分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性不飽和化合物並びに(C)光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物。
IPC (4件):
G03F 7/027 511
, C08F 2/50
, C08F299/02
, H05K 3/06
FI (4件):
G03F 7/027 511
, C08F 2/50
, C08F299/02
, H05K 3/06 H
Fターム (83件):
2H025AA00
, 2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AA06
, 2H025AA14
, 2H025AB11
, 2H025AB15
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC13
, 2H025BC43
, 2H025BC65
, 2H025BC82
, 2H025BC83
, 2H025CA00
, 2H025CB43
, 2H025CB51
, 2H025CB55
, 2H025DA01
, 2H025FA17
, 2H025FA40
, 2H025FA43
, 4J011QA23
, 4J011QA35
, 4J011QB15
, 4J011QB16
, 4J011QC03
, 4J011RA12
, 4J011RA14
, 4J011SA21
, 4J011SA25
, 4J011SA31
, 4J011SA51
, 4J011SA63
, 4J011SA78
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, 4J027AC02
, 4J027AC03
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, 4J027AG27
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, 5E339FF10
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