光半導体装置、その製造方法、およびその使用方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-069701
公開番号（公開出願番号）：特開平7-283479
出願日： 1994年04月07日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：

【要約】【目的】へき開位置ずれが生じても、単一モード発振特性を劣化させない。【構成】回折格子の縦方向長さを活性層およびクラッド層の縦方向長さより短くし、回折格子の縦方向両端部をクラッド層の縦方向端面より内側に配する。

請求項（抜粋）：

回折格子による光帰還により共振器を形成する分布帰還型光半導体装置であって、活性層と、該活性層の少なくとも一表面に形成される回折格子と、該回折格子および前記活性層を両面側から挟み込む一対のクラッド層とを備え、前記回折格子の光が伝搬する縦方向の長さは前記活性層および前記各クラッド層の縦方向の長さより短く形成されて、該回折格子の縦方向両端部が前記クラッド層の縦方向端面より内側に配置される光半導体装置。

引用特許：

審査官引用 (34件)

特開平3-248492
特開平1-310586
特開平3-077390

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