特許
J-GLOBAL ID:200903009726528260

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、レジストパターン及びレジストパターン積層基板

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-189551
公開番号(公開出願番号):特開2002-006488
出願日: 2000年06月23日
公開日(公表日): 2002年01月09日
要約:
【要約】【課題】 非ハロゲン、非アンチモン系難燃基板に適用した場合、難燃性(UL94-V0を保持)を満足でき、かつ、希アルカリ水溶液で現像でき、解像度、耐熱性、TCT性、可とう性及び機械特性が優れる高信頼性のソルダレジスト形成が可能な感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法、レジストパターン並びにレジストパターン積層基板を提供する。【解決手段】 (A)リン含有感光性樹脂及び(B)光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を支持体上に塗布及び乾燥してなる感光性エレメント、基板上に前記感光性樹脂組成物の層を積層し、活性光線を画像状に照射し、露光部を光硬化させ、未露光部を現像により除去することを特徴とするレジストパターンの製造法、このレジストパターンの製造法により製造されたレジストパターン並びにこのレジストパターンを基板上に有するレジストパターン積層基板。
請求項(抜粋):
(A)リン含有感光性樹脂及び(B)光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物。
IPC (6件):
G03F 7/027 515 ,  C08F 2/48 ,  C08F299/02 ,  C08G 59/16 ,  G03F 7/032 501 ,  H05K 3/28
FI (6件):
G03F 7/027 515 ,  C08F 2/48 ,  C08F299/02 ,  C08G 59/16 ,  G03F 7/032 501 ,  H05K 3/28 D
Fターム (64件):
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA10 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC14 ,  2H025BC74 ,  2H025BC83 ,  2H025BC85 ,  2H025FA17 ,  4J011QB19 ,  4J011SA02 ,  4J011SA14 ,  4J011SA15 ,  4J011SA16 ,  4J011SA18 ,  4J011SA20 ,  4J011SA22 ,  4J011SA23 ,  4J011SA24 ,  4J011SA28 ,  4J011SA29 ,  4J011SA32 ,  4J011SA34 ,  4J011SA54 ,  4J011SA61 ,  4J011SA63 ,  4J011SA64 ,  4J011SA82 ,  4J011SA84 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J011WA02 ,  4J027AE02 ,  4J027AE03 ,  4J027AE04 ,  4J027AE05 ,  4J027AE07 ,  4J027BA01 ,  4J027CB10 ,  4J027CC05 ,  4J027CD08 ,  4J027CD10 ,  4J036AA01 ,  4J036AB19 ,  4J036CA19 ,  4J036CA21 ,  4J036CA22 ,  4J036CC02 ,  4J036EA03 ,  4J036HA02 ,  4J036JA01 ,  4J036JA10 ,  5E314AA27 ,  5E314AA32 ,  5E314CC02 ,  5E314CC03 ,  5E314CC07 ,  5E314DD07 ,  5E314FF05 ,  5E314GG08 ,  5E314GG26
引用特許:
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (13件)
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