シリカのシラノール基含有率が低いシリカ

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：廣田浩一 , 流良広 , 松田奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-031841
公開番号（公開出願番号）：特開2008-189545
出願日： 2008年02月13日
公開日（公表日）： 2008年08月21日
要約：

【課題】BET法(DIN66131および66132)による表面積に対して、nm2あたりのSiOHの密度が0.6より小であるシリル化されたシリカを提供する。【解決手段】(1)シリル化剤による親水性出発シリカの被覆、(2)親水性シリカとシリル化剤との反応、および(3)シリル化剤および副反応生成物からのシリル化されたシリカの精製の工程をそれぞれ、専用の容器内で行う。【効果】該シリカを含有するトナーおよび現像剤は電子写真印刷において有利に使用することができ、直接法による画像転写法においても使用可能であり、またラッカーおよび塗料において耐引掻性の被覆を得るために使用される。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

BET法(DIN66131および66132)による表面積に対して、nm2あたりのSiOHの密度が0.6より小であるシリル化されたシリカの製造方法において、製造方法を3つの連続する別々の工程:(1)シリル化剤による親水性出発シリカの被覆、(2)親水性シリカとシリル化剤との反応、および(3)シリル化剤および副反応生成物からのシリル化されたシリカの精製、で行い、該工程はそれぞれ、専用の容器内で行うことを特徴とする、シリル化されたシリカの製造方法。

IPC (4件)：

C01B 33/18 , G03G 9/08 , G03G 9/097 , C08K 3/36

FI (4件)：

C01B33/18 C , G03G9/08 375 , G03G9/08 344 , C08K3/36

Fターム (39件)：

2H005AA08 , 2H005CB13 , 2H005DA05 , 4G072AA25 , 4G072AA41 , 4G072BB05 , 4G072DD05 , 4G072DD06 , 4G072DD07 , 4G072GG02 , 4G072GG03 , 4G072HH08 , 4G072HH28 , 4G072JJ01 , 4G072JJ03 , 4G072LL02 , 4G072LL03 , 4G072MM40 , 4G072QQ06 , 4G072RR03 , 4G072RR11 , 4G072RR12 , 4G072TT01 , 4G072TT02 , 4G072TT05 , 4G072TT06 , 4G072TT15 , 4G072UU30 , 4J002AA001 , 4J002BF001 , 4J002CD001 , 4J002CF001 , 4J002CF011 , 4J002CK021 , 4J002CP031 , 4J002DJ016 , 4J002FA086 , 4J002FB116 , 4J002FD016

引用特許：

出願人引用 (18件)

EP0855368A1
EP579049
DE02211377

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