特許

J-GLOBAL ID：200903009731644430

イソフタル酸、1,4-シクロヘキサンジメタノール、4,4’-ビフェニルジカルボン酸及び紫外線吸収性化合物を含むコポリエステル並びにそれから製造される製品

発明者： ファガーバーグ,デイビッド リチャード
出願人/特許権者： イーストマン ケミカル カンパニー
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-543639
公開番号（公開出願番号）：特表2003-516450
出願日： 2000年11月01日
公開日（公表日）： 2003年05月13日
要約：

【要約】耐紫外線性コポリエステルブレンドは、1,4-シクロヘキサンジメタノール残基を含むポリエチレンテレフタレート基材コポリエステル;ベンゾオキサジノン、二量体ベンゾトリアゾール、トリアジン及びこれらの混合物からなる群から選ばれた有効量の紫外線吸収剤;100モル%のジカルボン酸又はその等価物に基づき約5〜約40モル%の、前記コポリエステル中に存在するイソフタル酸残基;並びに100モル%のジカルボン酸又はその等価物に基づき2〜20モル%の4,4’-ビフェニルジカルボン酸残基を含む。このコポリエステルブレンドは、耐紫外線性熱成形品の製造に使用できる。

請求項（抜粋）：

a)1,4-シクロヘキサンジメタノール残基を有するポリエチレンテレフタレート基材コポリエステル;b)ベンゾオキサジノン、二量体ベンゾトリアゾール、トリアジン及びこれらの混合物からなる群から選ばれた有効量の紫外線吸収剤;c)100モル%のジカルボン酸残基又はそれらの等価物に基づき5〜40モル%の、前記コポリエステル中に存在するイソフタル酸残基;並びにd)100モル%のジカルボン酸残基又はそれらの等価物に基づき2〜20モル%の、前記コポリエステル中に存在する4,4’-ビフェニルジカルボン酸残基を含んでなる耐紫外線性コポリエステルブレンド。

IPC (6件)：

C08L 67/02 ,  B32B 27/36 ,  C08J 5/18 CFD ,  C08K 5/3475 ,  C08K 5/3492 ,  C08K 5/357

FI (6件)：

C08L 67/02 ,  B32B 27/36 ,  C08J 5/18 CFD ,  C08K 5/3475 ,  C08K 5/3492 ,  C08K 5/357

Fターム (28件)：

4F071AA44 ,  4F071AC19 ,  4F071AE05 ,  4F071AF30 ,  4F071AF34 ,  4F071AF57 ,  4F071BB06 ,  4F071BC01 ,  4F100AK41A ,  4F100AK41B ,  4F100AK41K ,  4F100AL01A ,  4F100AL01B ,  4F100AL05A ,  4F100AL05B ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100CA07A ,  4F100CA07B ,  4F100GB07 ,  4F100GB90 ,  4F100JL09A ,  4J002CF041 ,  4J002EU176 ,  4J002EU186 ,  4J002EU236 ,  4J002FD056 ,  4J002GF00