特許

J-GLOBAL ID：200903009752440630

固定化リパーゼ、リパーゼの基質特異性向上方法及び光学分割反応方法

発明者： ▲高▼橋 治雄 ,  リ ボウ ,  浅見 修
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 北川 治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-289775
公開番号（公開出願番号）：特開2002-095471
出願日： 2000年09月25日
公開日（公表日）： 2002年04月02日
要約：

【要約】【課題】 高い酵素活性を維持してリパーゼを固定化し、かつ、その光学異性体に対する基質特異性を高める。【解決手段】 光学異性体に対する基質特異性を示すリパーゼを、それよりやや大きい内径を備え構造安定性を有する構造ユニット、特に好ましくはメソポーラスシリカ多孔体の細孔内に固定化する。

請求項（抜粋）：

光学異性体に対して基質特異性を示すリパーゼを、該リパーゼの分子直径よりやや大きい内径を備え構造安定性を有する構造ユニット中に固定化したことを特徴とする固定化リパーゼ。

IPC (3件)：

C12N 11/14 ,  C12N 9/20 ,  C12P 41/00

FI (3件)：

C12N 11/14 ,  C12N 9/20 ,  C12P 41/00 D

Fターム (15件)：

4B033NA01 ,  4B033NA27 ,  4B033NB12 ,  4B033NB24 ,  4B033NC04 ,  4B033NC12 ,  4B033ND02 ,  4B050CC02 ,  4B050GG10 ,  4B050LL05 ,  4B064AD61 ,  4B064CA33 ,  4B064CA40 ,  4B064CB24 ,  4B064CD27