特許
J-GLOBAL ID:200903009764877422

植物栽培方法及び植物栽培装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 和人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-011123
公開番号(公開出願番号):特開2005-237371
出願日: 2005年01月19日
公開日(公表日): 2005年09月08日
要約:
【課題】きわめて低消費エネルギーで植物体を加温処理することにより植物体の休眠打破や草勢維持を行うことが可能な植物栽培技術を提供する。【解決手段】短縮茎形成植物の草勢制御を行うにあたり、植物体の短縮茎を局部的に加温することにより当該植物体の地上茎の伸長に必要な所定の温度範囲に維持する。短縮茎を、地上茎の伸長に必要な所定の温度範囲に維持すれば、植物体の地上茎が伸長可能状態となる。あとは、必要があれば長日処理やジベレリン処理等を組み合わせて行うことにより、休眠相にある場合は休眠覚醒を生じさせ、また、覚醒後は植物体の草勢を活性化することができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
地際に短縮茎を形成する植物(以下、「短縮茎形成植物」という。)の草勢制御を行う植物栽培方法であって、植物体の短縮茎を局部的に直接加温することにより当該植物体の葉部の伸長に必要な所定の温度範囲に維持することを特徴とする植物栽培方法。
IPC (4件):
A01G9/20 ,  A01G1/00 ,  A01G7/00 ,  A01G9/02
FI (5件):
A01G9/20 A ,  A01G1/00 301H ,  A01G1/00 301Z ,  A01G7/00 601Z ,  A01G9/02 103W
Fターム (9件):
2B022AA01 ,  2B022DA17 ,  2B027ND01 ,  2B027NE01 ,  2B027UB10 ,  2B027UB16 ,  2B029KB05 ,  2B029KB10 ,  2B029SC03

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