特許

J-GLOBAL ID：200903009777654058

複合コーティング

発明者： シー,ツー ,  タン,ホン シアン ,  タイ,ベン カン
出願人/特許権者： ナンヤン テクノロジカル ユニバーシティ
代理人 (1件)： 南條 博道
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-617223
公開番号（公開出願番号）：特表2002-544380
出願日： 2000年05月10日
公開日（公表日）： 2002年12月24日
要約：

【要約】本発明は、複合コーティング、特に、炭素とシリコンまたはアルミニウムのような他の金属元素とを含む、複合コーティングを記載する。これらのコーティングは、減少した応力レベルを有しそしてより高い層厚で蒸着され得るが、許容可能な硬度および他の有用な機械的特性を保持する点で、純粋な四面体アモルファス炭素コーティングと比較して改良された特性を有する。複合コーティングの作成方法、このコーティングを作成するための材料、およびそれによりコートされた基材も記載される。詳細には、カソードアーク光源を用いて基材にコーティングを付与する方法は、該光源のカソードターゲットとアノードとの間にアークを生じさせる工程、および該基材上に陽ターゲットイオンを蒸着させて該コーティングを形成する工程、を含み、該コーティングは、少なくとも第1および第2の元素の複合物であり、そして該ターゲットは、該少なくとも第1および第2の元素を含む。複合コーティングは、四面体アモルファス炭素と炭素以外の金属元素とを含み、この複合コーティングは、少なくとも60%のsp3含量を有する。カソードアーク光源において使用するためのターゲットは、炭素と炭素以外の金属元素との混合物を含む。

請求項（抜粋）：

フィルタを通したカソードアーク光源を用いて基材にコーティングを付与する方法であって、 該光源のカソードターゲットとアノードとの間にアークを生じさせる工程;および 該基材上に陽ターゲットイオンを蒸着させて該コーティングを形成する工程、を含み、 該コーティングが、少なくとも炭素と第2の元素との複合物であり、そして該ターゲットが、該少なくとも炭素と第2の元素とを含む、 方法。

IPC (2件)：

C23C 14/06 ,  C23C 14/24

FI (2件)：

C23C 14/06 B ,  C23C 14/24 F

Fターム (8件)：

4K029AA06 ,  4K029AA25 ,  4K029BA34 ,  4K029BA55 ,  4K029BA56 ,  4K029BA57 ,  4K029CA04 ,  4K029DD06