特許

J-GLOBAL ID：200903009782030062

半導体装置の洗浄方法と洗浄装置

発明者： 大西 照人 ,  松元 道一 ,  三由 裕一
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-130337
公開番号（公開出願番号）：特開平6-342780
出願日： 1993年06月01日
公開日（公表日）： 1994年12月13日
要約：

【要約】【目的】 キャリアの搬送機構からの発塵をなくし、洗浄装置の占有面積を縮小させる。【構成】 本発明の洗浄装置は、洗浄、水洗、乾燥を1つの処理槽1で実施し、1つ以上の薬液タンク6a〜6cと、処理槽1内の液を循環させるポンプ4と、循環系1内のパーテイクルを除去するためのフィルタ5と、処理槽1内を排気、排液するライン7と、処理槽1内に気体を充填できるライン8と、薬液タンク及び処理槽には加熱手段21を備え、処理槽内は気密にできるものである。

請求項（抜粋）：

処理槽1槽だけで洗浄、水洗、乾燥を行うことを特徴とする半導体装置の洗浄方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 361 ,  B08B 3/04