特許

J-GLOBAL ID：200903009796073660

露光装置

発明者： 森重 幸雄
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-200726
公開番号（公開出願番号）：特開平6-053105
出願日： 1992年07月28日
公開日（公表日）： 1994年02月25日
要約：

【要約】【目的】露光時間を短縮させる。【構成】複数の半導体レーザ光源501がアレイ状に配置された半導体レーザアレイユニット5と、半導体レーザ光源501からのレーザ光の照射によって感光する感光剤10が塗布された基板1を保持するX-Y-Zステージ9と、複数の半導体レーザ光源501からのそれぞれの出射光を所望の形状に変換して基板1に照射するコリメートレンズアレイ6,スリットアレイ7及び結像レンズアレイ8から成るアレイ状の光学系と、複数の半導体レーザ光源501とアレイ状の光学系とを基板1上に保持する光学系保持機構11と、X-Y-Zステージ9の動きを制御するステージコントローラ4と、複数の半導体レーザ光源501の光のオン/オフを制御する半導体レーザアレイコントローラ3と、ステージコントローラ4及び半導体アレイコントローラ3の動作を予め定められた露光パターンデータに基づき同期させて制御する制御ユニット2とを有して構成している。

請求項（抜粋）：

複数の半導体レーザ光源がアレイ状に配置されたアレイユニットと、前記半導体レーザ光源からのレーザ光の照射によって感光する感光剤が塗布された基板を保持するステージと、前記複数の半導体レーザ光源からのそれぞれの出射光を所望の形状に変換して前記基板に照射するアレイ状の光学系と、前記複数の半導体レーザ光源と前記アレイ状の光学系とを前記基板上に保持する保持機構と、前記ステージの動きを制御するステージコントローラと、前記複数の半導体レーザ光源の光のオン/オフを制御する半導体レーザアレイコントローラと、前記ステージコントローラ及び前記半導体アレイコントローラの動作を予め定められた露光パターンデータに基づき同期させて制御する制御ユニットとを有していることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特公昭49-012052
  
• 特開昭53-093371