特許
J-GLOBAL ID：200903009803049737
大気圧プラズマ処理方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
八木田 茂
, 浜野 孝雄
, 森田 哲二
, 平井 輝一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-177167
公開番号（公開出願番号）：特開2004-022397
出願日： 2002年06月18日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：
【課題】ヘリウムガスの必要量を大幅に削減できる大気圧プラズマ処理方法及び装置を提供する。【解決手段】本発明の大気圧プラズマ処理方法においては、冷却された処理ガスを放電空間に導入することを特徴としている。また、本発明の大気圧プラズマ処理装置においては、第1の電極及び第2の電極の近傍に画定された放電空間に導入される処理ガスを冷却するガス冷却手段を設けたことを特徴としている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
処理チャンバ内に、電圧の印加される第1の電極と接地される第2の電極とを交互に二つ以上配置し、第1の電極及び第2の電極の少なくとも一方の電極を誘電体で被覆又は封止し、これら電極間で放電を発生させて大気圧プラズマを生成し、処理チャンバ内に挿置した被処理基板を処理するようにした大気圧プラズマ処理方法において、冷却された処理ガスを放電空間に導入することを特徴とする大気圧プラズマ処理方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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