特許

J-GLOBAL ID：200903009805198470

微細粒子分級用フィルター及びその製造方法

発明者： 大垣 傑
出願人/特許権者： 株式会社リコー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-297683
公開番号（公開出願番号）：特開平10-118569
出願日： 1996年10月19日
公開日（公表日）： 1998年05月12日
要約：

【要約】【課題】 穴加工工程の簡略化、歩留り及び穴加工精度の向上が可能な、微細粒子分級用フィルターの製造方法を提供する。【解決手段】 レーザ光をマスクでパターン化し、イメージングレンズを通過したレーザビーム202を、加工ステージ上に吸着固定したポリイミドフィルム101に照射する。レーザビーム202はアブレーションを生じ、穴12の穿孔加工が行われる。穿孔レートは、レーザ光の波長・エネルギー及びフィルム101の材質によって異なるが、KrFエキシマ1.0/cm2 であれば、ポリイミドフィルムについて1パスル当たり深さ0.2μm掘り下げることができる。穿孔加工後、フィルム101の加工面すなわちレーザビーム照射側の面に金属蒸着膜23を、裏面に耐摩耗性皮膜22をそれぞれ形成する。

請求項（抜粋）：

PET,PES,PC,PI等の高分子材料からなるフィルムにレーザ光を照射して穿孔加工を施すことを特徴とする微細粒子分級用フィルターの製造方法。

IPC (6件)：

B07B 1/00 ,  B01D 39/16 ,  B07B 1/46 ,  B23K 26/00 330 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/14

FI (6件)：

B07B 1/00 Z ,  B01D 39/16 Z ,  B07B 1/46 A ,  B23K 26/00 330 ,  B23K 26/06 J ,  B23K 26/14 A