特許
J-GLOBAL ID：200903009807070994
真空脱ガス装置における脱水素濃度制御方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
溝上 満好 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-021021
公開番号（公開出願番号）：特開平9-209027
出願日： 1996年02月07日
公開日（公表日）： 1997年08月12日
要約：
【要約】【解決手段】 RH脱ガス装置2を用いた精錬において、精錬前に、プリセットされた、以前のエジェクター及びブースターの運転パターンにより予測した排気量に基づいて真空度を予測し、この予測した真空度に基づいて鋼中水素濃度を予め推定しておく。精錬開始後、実績としての真空度を前記予測した真空度と比較する。誤差がある場合には、再度、実績値に基づいて精錬終了までの真空度を予測し、その予測値に応じた水素濃度を推定することを、精錬中、一定周期で繰り返し行い、現時点での推定水素濃度が目標水素濃度未満となった時に精錬を終了する。【効果】 精錬中の鋼中水素濃度を高精度に制御できて、過剰な脱水素処理がなくせ、精錬時間を短縮できる。
請求項（抜粋）：
真空脱ガス装置を用いた精錬において、精錬前に、プリセットされた、以前のエジェクター及びブースターの運転パターンにより予測した排気量に基づいて真空度を予測し、この予測した真空度に基づいて鋼中水素濃度を予め推定しておき、精錬開始後、実績としての真空度を前記予測した真空度と比較し、その差が許容範囲より外れる場合には、再度、実績値に基づいて精錬終了までの真空度を予測し、その予測値に応じた水素濃度を推定することを、精錬中、一定周期で繰り返し行い、現時点での推定水素濃度が目標水素濃度未満となった時に精錬を終了することを特徴とする真空脱ガス装置における脱水素濃度制御方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
C21C 7/10 A
, C21C 7/00 N
, C21C 7/00 R
