特許

J-GLOBAL ID：200903009831923523

排ガス浄化装置

発明者： 石川 敬郎 ,  花岡 博史 ,  飯塚 秀宏 ,  大石 知司 ,  前川 幸子 ,  嘉本 大五郎 ,  高橋 研 ,  北原 雄一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-147097
公開番号（公開出願番号）：特開平9-000881
出願日： 1995年06月14日
公開日（公表日）： 1997年01月07日
要約：

【要約】【目的】本発明の目的は、簡単なシステムで酸素過剰の排ガス中においても窒素酸化物を低温で除去でき、かつ耐熱性に優れた触媒を提供することにある。【構成】酸素過剰の雰囲気下で燃焼させる内燃機関の排ガス浄化装置において、前段にNOに対して活性な触媒を、後段にNO2に対して活性な触媒を配置させる。【効果】本発明の触媒を用いることにより、酸素過剰の排ガス中においても窒素酸化物を低温で除去でき、かつ耐熱性に優れ、酸素濃度を強制的に変動させることのない簡単なシステムで高いNO浄化率と耐熱性を有する触媒を提供することができる。

請求項（抜粋）：

酸素過剰の雰囲気下で燃焼させる内燃機関の排ガス浄化装置において、前記排ガスの上流側の前段にNOに対して活性な触媒を、前記排ガスの下流側の後段にNO2 に対して活性な触媒を配置させることを特徴とする排ガス浄化装置。

IPC (6件)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01J 23/54 ZAB ,  B01J 23/63 ,  B01J 23/58 ,  F01N 3/10 ZAB

FI (7件)：

B01D 53/36 ZAB ,  B01J 23/54 ZAB A ,  B01J 23/58 A ,  F01N 3/10 ZAB A ,  B01D 53/36 102 B ,  B01D 53/36 102 H ,  B01J 23/56 A