特許

J-GLOBAL ID：200903009834531553

被処理体の離脱方法

発明者： 佐伯 弘明 ,  近藤 昌樹
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-139153
公開番号（公開出願番号）：特開平6-326177
出願日： 1993年05月17日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：

【要約】【目的】 被処理体を静電気力で吸着保持する静電チャックの被処理体保持部から、より静電チャックの被処理体保持部と水平状態を保ったまま、離脱することができる被処理体の離脱方法を提供する。【構成】 プラズマを生起させ被処理体5を処理する処理室1内に設けられ、前記被処理体5を静電気力で吸着保持する静電チャック10から前記被処理体5を離脱手段51により離脱させる被処理体5の離脱方法において、前記プラズマの生起中に前記静電チャック10に印加する印加電圧を停止し、そのプラズマ生起中に離脱手段51により前記被処理体5を前記静電チャック10の被処理体保持部11から離脱させたものである。

請求項（抜粋）：

プラズマを生起させ被処理体を処理する処理室内に設けられ、前記被処理体を静電気力で吸着保持する静電チャックから前記被処理体を離脱手段により離脱させる被処理体の離脱方法において、前記プラズマの生起中に前記静電チャックに印加する印加電圧を停止し、そのプラズマ生起中に離脱手段により前記被処理体を前記静電チャックの被処理体保持部から離脱させることを特徴とする被処理体の離脱方法。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H01L 21/302

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平3-003251
  
• 特開平4-099024
  
• 特開平4-253356
  

審査官引用 (4件)

• 特開平3-003251
  
• 特開平4-099024
  
• 特開平3-003251
  
• 特開平4-099024