投影露光方法及び投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-291187
公開番号（公開出願番号）：特開平6-140306
出願日： 1992年10月29日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：

【要約】【目的】照明光の偏光状態を考慮した場合に、より解像度を高める。【構成】レチクルR上の転写用の開口パターン19を空間周波数成分の方向に応じて、レチクルR1上の開口パターン21とレチクルR2上の開口パターン23とに分解する。開口パターン21,23のそれぞれを照明する照明光を空間周波数成分が存在する方向に垂直な方向(X方向及びY方向)に偏光させ、この偏光状態の照明光のもとで開口パターン21,23の像を順次感光基板上に露光する。

請求項（抜粋）：

転写用のパターンが形成されたマスクを照明光で照明し、該照明光のもとで前記マスクの転写用のパターンの像を感光基板上に投影する投影露光方法において、前記転写用のパターンを空間周波数成分の方向に応じて複数の部分パターンに分解し、該複数の部分パターンのそれぞれを照明する前記照明光を対応する前記部分パターンの空間周波数成分が存在する方向に垂直な方向に偏光させ、該偏光状態の照明光のもとで前記複数の部分パターンの像を順次前記感光基板上に投影する事を特徴とする投影露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (2件)：

H01L 21/30 311 M , H01L 21/30 311 W

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平1-143216
特開平4-273245
特開平3-032015

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