特許
J-GLOBAL ID：200903009841771659
半導体製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石戸 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-311509
公開番号（公開出願番号）：特開平7-161796
出願日： 1993年12月13日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 クリーンルームの清浄度を維持し、装置内及びクリーンルーム内の気流の乱れを防止し、装置内への手の挿入を阻止して怪我するおそれをなくす。【構成】 ウェーハカセットを受け渡しするための開口部7に、装置内とクリーンルーム間を遮断できるシャッタ3を開閉可能に設けたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ウェーハカセットを受け渡しするための開口部に、装置内とクリーンルーム間を遮断できるシャッタを開閉可能に設けたことを特徴とする半導体製造装置。
IPC (4件)：
H01L 21/68
, F24F 7/06
, H01L 21/02
, H01L 21/31
