特許

J-GLOBAL ID：200903009851954735

排水処理システム

発明者： 谷本 好広 ,  田村 敏裕 ,  藤本 恵一 ,  赤松 功三 ,  米田 勲 ,  高見 博之
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 紋田 誠 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-390286
公開番号（公開出願番号）：特開2002-186987
出願日： 2000年12月22日
公開日（公表日）： 2002年07月02日
要約：

【要約】【課題】 中継槽内に滞留する排水が腐敗するのを防止することができる排水処理システムを提供する。【解決手段】 排水源(ディスポーザ2)から排水処理装置11に至る排水経路途中にあって、排水源からの有機性汚濁物質を含む排水の流入を受け入れ、その流入水を排水処理装置11に排出するための排水排出手段(圧送ポンプ8)を有する中継槽7を備えた排水処理システムにおいて、一定時間毎に中継槽7内の排水に酸素を供給する酸素供給手段(圧送ポンプ8を兼用)を備えた。

請求項（抜粋）：

排水源から排水処理装置に至る排水経路途中にあって、前記排水源からの有機性汚濁物質を含む排水の流入を受け入れ、その流入水を前記排水処理装置に排出するための排水排出手段を有する中継槽を備えた排水処理システムにおいて、一定時間毎に前記中継槽内の排水に酸素を供給する酸素供給手段を備えたことを特徴とする排水処理システム。

IPC (5件)：

C02F 3/12 ,  B09B 3/00 ,  C02F 1/00 ZAB ,  E03C 1/266 ,  E03F 5/22

FI (5件)：

C02F 3/12 J ,  C02F 1/00 ZAB J ,  E03C 1/266 Z ,  E03F 5/22 ,  B09B 3/00 D

Fターム (16件)：

2D061DA03 ,  2D063DC04 ,  4D004AA03 ,  4D004CA04 ,  4D004CA19 ,  4D004CC02 ,  4D004CC08 ,  4D004DA01 ,  4D004DA02 ,  4D004DA11 ,  4D004DA20 ,  4D028AB00 ,  4D028BC22 ,  4D028CA09 ,  4D028CB08 ,  4D028CD02