特許
J-GLOBAL ID:200903009861675974

表面を改質するための方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西脇 民雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-524806
公開番号(公開出願番号):特表2001-526325
出願日: 1998年12月08日
公開日(公表日): 2001年12月18日
要約:
【要約】本発明は、基材の表面を改質するための方法及び装置に関するものである。ホローカソードとそれに付属したアノードとを利用してグロー放電によって被処理基材の近傍でプラズマが生成される。グロー放電領域内にある反応性ガスが活性化され、基材表面に変化を引き起こして希望する改質を生じる。ホローカソードが自己浄化温度にされ、この温度に保持され、これにより、反応性ガスに由来する寄生皮膜が取り除かれ及び/又は変換される。自己浄化温度は下記要因を考慮することによって安定されている:グロー放電によるホローカソードの加熱、反応性ガスによる熱伝導、そしてホローカソードから僅かな距離に配置される冷却式アノードの方向への放射。
請求項(抜粋):
基材の表面を改質するための方法であって、ホローカソードと付属のアノードとを利用してグロー放電によって被処理基材の近傍にプラズマが生成され、グロー放電領域内にある反応性ガスが活性化され、基材を改質するために表面変化が引き起こされるものにおいて、ホローカソードが自己浄化温度にされて保持され、反応性ガス又は基材に由来する寄生皮膜がこの温度において取り除かれ及び/又は変換されることを特徴とする方法。
IPC (6件):
C23C 16/50 ,  B01J 19/08 ,  C23C 14/02 ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/24
FI (6件):
C23C 16/50 ,  B01J 19/08 C ,  C23C 14/02 Z ,  H01J 37/32 ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/302 B

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