特許

J-GLOBAL ID：200903009865992605

ビニロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル類の製造方法

発明者： 山口 博子 ,  万木 啓嗣
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-030721
公開番号（公開出願番号）：特開2001-220364
出願日： 2000年02月08日
公開日（公表日）： 2001年08月14日
要約：

【要約】【課題】 下記一般式(1):CH2=CR1-COO-R2-O-CH=CH2(式中、 R1は水素原子またはメチル基、R2は有機残基を表す)で示される ビニロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル類を経済的に効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】 下記一般式(1):CH2=CR1-COO-R2-OH(式中、R1は水素原子またはメチル基、R2は有機残基を表す)で表されるヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル類と、下記一般式(2):CH2=CH-O-R3(式中、 R3は有機残基を表す)で表わされる化合物(I)および/または下記一般式(3):R4COO-CH=CH2(式中、 R4は水素原子または有機残基を表す)で表される化合物(II)とを反応させることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1):CH2=CR1-COO-R2-OH(式中、R1は水素原子またはメチル基、R2は有機残基を表す)で表されるヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル類と、下記一般式(2):CH2=CH-O-R3(式中、R3は有機残基を表す)で表わされる化合物(I)および/または下記一般式(3):R4COO-CH=CH2(式中、R4は水素原子または有機残基を表す)で表される化合物(II)とを反応させることを特徴とする下記一般式(4):CH2=CR1-COO-R2-O-CH=CH2(式中、R1は水素原子またはメチル基、R2は有機残基を表す)で表されるビニロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル類の製造方法。

IPC (4件)：

C07C 67/29 ,  B01J 31/22 ,  C07C 69/734 ,  C07B 61/00 300

FI (4件)：

C07C 67/29 ,  B01J 31/22 X ,  C07C 69/734 Z ,  C07B 61/00 300

Fターム (9件)：

4H006AA02 ,  4H006AC43 ,  4H006BA25 ,  4H006BA94 ,  4H006BP10 ,  4H006KA30 ,  4H039CA61 ,  4H039CD10 ,  4H039CD30