光学素子の製造方法、この製造方法により製造された光学素子、この光学素子を用いた露光装置の製造方法及び収差測定装置の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤本芳洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-122560
公開番号（公開出願番号）：特開2003-315507
出願日： 2002年04月24日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：

【要約】【課題】量産性の高い光学素子の製造方法を提供することである。【解決手段】 1次元に配列されたマスクパターンを有する第1の1次元マスクを投影系の物体面に設定する第1のマスク設定工程(S20)と、感光性光学材料をステージ上に設定する基板設定工程(S21)と、第1の1次元マスクのパターン形状を感光性光学材料上に露光する第1の露光工程(S23)と、第1のマスク設定工程において設定された第1の1次元マスクのマスクパターンの配列方向に対して、マスクパターンの配列方向を所定角度回転させた第2の1次元マスクを投影系の物体面に設定する第2のマスク設定工程(S24)と、第2の1次元マスクのパターン形状を感光性光学材料上に露光する第2の露光工程(S25)と、第1の露光工程及び第2の露光工程により露光された感光性光学材料を現像する現像工程(S26)と、現像工程により現像された感光性光学材料をエッチングするエッチング工程(S27)とを備える。

請求項（抜粋）：

1次元に配列されたマスクパターンを有する第1の1次元マスクを投影系の物体面に設定する第1のマスク設定工程と、感光性光学材料をステージ上に設定する基板設定工程と、前記第1の1次元マスクのパターン形状を前記感光性光学材料上に露光する第1の露光工程と、前記第1のマスク設定工程において設定された前記第1の1次元マスクのマスクパターンの配列方向に対して、マスクパターンの配列方向を所定角度回転させた第2の1次元マスクを前記投影系の物体面に設定する第2のマスク設定工程と、前記第2の1次元マスクのパターン形状を前記感光性光学材料上に露光する第2の露光工程と、前記第1の露光工程及び前記第2の露光工程により露光された前記感光性光学材料を現像する現像工程と、前記現像工程により現像された前記感光性光学材料をエッチングするエッチング工程とを備えることを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (4件)：

G02B 3/00 , G02B 19/00 , G03F 1/08 , G03F 7/20 501

FI (4件)：

G02B 3/00 A , G02B 19/00 , G03F 1/08 G , G03F 7/20 501

Fターム (15件)：

2H052BA02 , 2H052BA03 , 2H052BA09 , 2H052BA12 , 2H095BA12 , 2H095BB32 , 2H095BB33 , 2H095BC09 , 2H097BA01 , 2H097BA06 , 2H097BB01 , 2H097GB02 , 2H097JA02 , 2H097JA03 , 2H097LA17

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