特許
J-GLOBAL ID：200903009870867053
炭素-炭素不飽和基を含有するイソブチレン系重合体とその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-035183
公開番号（公開出願番号）：特開平7-224113
出願日： 1994年02月09日
公開日（公表日）： 1995年08月22日
要約：
【要約】【目的】アリル化試剤を用いずに安価でかつ容易に、炭素-炭素不飽和基を含有するイソブチレン系重合体を製造できる方法およびイソプロペニル基含有量の高いイソブチレン系重合体およびその製造方法を提供することにある。【構成】分子内に第三級炭素-ハロゲン結合を有するイソブチレン系重合体を実質的に触媒が存在しない状態で減圧加熱下で処理し、脱ハロゲン化水素反応を行うこと、並びにルイス酸触媒を失活させて得たイソブチレン系重合体溶液から、溶剤を留去した後、引き続き減圧加熱下で処理すること、及びイソプロペニル基と2-メチル-1-プロペニル基の量比制御された重合体。【効果】減圧・加熱処理により、効率よく選択性にも優れた脱ハロゲン化水素反応を行うことができる。
請求項（抜粋）：
一般式(1):【化1】(式中、R1 は炭素数2〜20、価数n価の置換もしくは無置換の芳香族または脂肪族の炭化水素基、R2 はイソブチレンを含んでなる2価の重合体単位、Xはハロゲン原子、nは1以上の自然数を表わす。)で表される分子内に第三級炭素-ハロゲン結合を有するイソブチレン系重合体を減圧下で加熱し、脱ハロゲン化水素反応を行うことを特徴とする炭素-炭素不飽和基を含有するイソブチレン系重合体の製造方法。
IPC (2件)：
C08F 8/26 MGX
, C08F 10/10 MJG
