特許
J-GLOBAL ID：200903009874933956
射出成形方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大橋 弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-244610
公開番号（公開出願番号）：特開2002-052583
出願日： 2000年08月11日
公開日（公表日）： 2002年02月19日
要約：
【要約】【技術課題】 転写性と光沢性に優れた製品を成形するための射出成形方法を提供する。【解決手段】 射出成形において、キャビティ1内に一旦樹脂を充填した直後、キャビティ1と樹脂とが接している成形品のスキン層に二酸化炭素ガスを注入してスキン層を後退させてキャビティとスキン層間に空隙13を形成することにより、スキン層の成長を止め、併せてスキン層内に二酸化炭素ガスを溶解させて、スキン層を軟化させる。次に樹脂圧を高めてスキン層を再度キャビティ1内に密着させ、保圧をかけながら冷却して固化させる。このようにすると、転写性及び光沢性に優れた製品を成形することができる。
請求項（抜粋）：
キャビティ内に一旦樹脂を充填した直後、キャビティと可視面を形成するスキン層間に空隙を形成することによりスキン層の成長を止める、次に、この空隙内にスキン層軟化用の流体を注入する、次に、樹脂圧を高めてスキン層を再度キャビティ面に密着させ、保圧をかけながら冷却して固化させることにより、転写性及び光沢性に優れ、外観良好なる製品を成形する射出成形方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (7件)：
4F206AM32
, 4F206AM36
, 4F206JA07
, 4F206JN12
, 4F206JN27
, 4F206JN33
, 4F206JQ81
