特許

J-GLOBAL ID：200903009882729179

X線分析装置

発明者： 堀井 義正
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-241063
公開番号（公開出願番号）：特開平6-094653
出願日： 1992年09月10日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：

【要約】【目的】 本発明は,X 線を利用する分析装置, 特にX 線吸収微細構造測定装置の改良に関し,波長走査を伴う蛍光XAFS測定において, 試料に対するX 線の侵入長が一定に保持される蛍光XAFS測定装置を提供することを目的とする。【構成】 被測定試料に入射する入射X 線と該試料から反射する反射X 線及び該試料からの蛍光X 線それぞれの強度を測定するX 線検出器と, 該入射X 線と該反射X 線の強度から反射率を計算する測定器制御装置と, 入射X 線の波長走査に追随し,且つ該反射率を一定値に保持するように, 該試料への入射角を調整する分光器制御装置と, 該試料を載置する入射角可変の試料ステージとを有するように構成する。

請求項（抜粋）：

入射X 線の波長を走査する分光器と被測定試料からの蛍光X線を検出する測定器を備えた蛍光XAFS測定装置において,入射X 線の被測定試料中への侵入長を一定に保持するように,入射X 線の波長走査に追随し, 該試料表面への入射角を制御する制御装置を有することを特徴とする蛍光XAFS測定装置。