特許

J-GLOBAL ID：200903009887308864

合金製造装置および水素吸蔵合金の製造方法

発明者： 佐野 達二 ,  山下 信一 ,  長 勤 ,  岡田 益男
出願人/特許権者： ティーディーケイ株式会社
代理人 (1件)： 奥山 雄毅
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-398643
公開番号（公開出願番号）：特開2002-331336
出願日： 2001年12月27日
公開日（公表日）： 2002年11月19日
要約：

【要約】【課題】 溶解時のるつぼ、ノズル等の材料による汚染の少ない合金製製造装置及び水素吸蔵量が多く、プラトー領域における傾きが小さい水素吸蔵合金の製造方法を提供する。【解決手段】 金属材料を溶解して溶湯5を形成するために、アーク電極3と溶湯保持手段(ハース)5とを有する溶解手段が配置された第1チャンバー1と、第1チャンバーに連結され、前記溶湯5を冷却する回転ロール9の冷却手段が配置された第2チャンバー2と、第1チャンバー1および/または第2チャンバー2を不活性雰囲気に維持する雰囲気制御手段15とを備える合金製造装置である。

請求項（抜粋）：

金属材料を溶解して溶湯を形成する溶解手段が配置された第1チャンバーと、第1チャンバーに連結され、前記溶湯を冷却する冷却手段が配置された第2チャンバーと、第1チャンバーおよび/または第2チャンバーを不活性雰囲気に維持する雰囲気制御手段とを備えることを特徴とする合金製造装置。

IPC (6件)：

B22D 11/00 ,  B22D 11/06 360 ,  B22D 11/06 370 ,  B22D 11/06 380 ,  C22C 1/00 ,  C22C 27/06

FI (6件)：

B22D 11/00 D ,  B22D 11/06 360 B ,  B22D 11/06 370 B ,  B22D 11/06 380 A ,  C22C 1/00 N ,  C22C 27/06

Fターム (5件)：

4E004DB02 ,  4E004DB16 ,  4E004DB18 ,  4E004TA06 ,  4E004TB07