特許
J-GLOBAL ID:200903009890868323

マスク及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 野河 信太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-204845
公開番号(公開出願番号):特開2004-351190
出願日: 2003年07月31日
公開日(公表日): 2004年12月16日
要約:
【課題】呼吸が楽に行え、かつ容易に低コストで製造できるマスク及びその製造方法を提供することにある。【解決手段】布地で構成され、少なくとも口と鼻を覆うマスク本体1と、一対の耳掛け部2、2とを備える。マスク本体1は、その中央部分でかつ上下方向、左右方向及び斜め方向のうちの少なくともいずれか1つの方向に、布地を補強し、着用した状態で内側に呼吸用空間を形成可能に布地を前方へ湾曲させ保持する剛性部を備える。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
布地で構成され、少なくとも口と鼻を覆うマスク本体と、一対の耳掛け部とを備え、マスク本体は、その中央部分でかつ上下方向、左右方向及び斜め方向のうちの少なくともいずれか1つの方向に、布地を補強し、着用した状態で内側に呼吸用空間を形成可能に布地を前方へ湾曲させ保持する剛性部を備えたことを特徴とするマスク。
IPC (1件):
A62B18/02
FI (1件):
A62B18/02 C
Fターム (5件):
2E185AA07 ,  2E185BA04 ,  2E185BA20 ,  2E185CC32 ,  2E185CC73

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