特許
J-GLOBAL ID:200903009893905327

高圧ガス容器の内面処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 最上 正太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-062658
公開番号(公開出願番号):特開2000-257795
出願日: 1999年03月10日
公開日(公表日): 2000年09月19日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、圧縮ガス又は液化ガスの充填に使用する高圧ガス容器の内面処理方法を提供する。【解決手段】高圧ガス容器の内面を研磨処理した後、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミンから選ばれる少なくとも一種の有機塩基、又は苛性ソーダ、苛性カリウム及びアンモニアから選ばれる少なくとも一種の無機塩基、あるいは一般式〔1〕で示される脂肪酸塩と、一般式〔2〕で示される脂肪酸アミドとを含む溶液で、【化1】R-COON(CH2CH2OH)2 〔1〕【化2】R-CON(CH2CH2OH)2 〔2〕(式中、Rは炭素数2〜26のアルキル基を表す)、さらに上記洗浄液に酸化剤を含む溶液で洗浄する。
請求項(抜粋):
高圧ガス容器の内面を研磨処理した後、塩基性洗浄液又は塩基性洗浄液に酸化剤を含む溶液で洗浄することを特徴とする高純度ガス充填用高圧ガス容器の内面処理方法。
IPC (3件):
F17C 1/10 ,  C23G 1/08 ,  C23G 1/10
FI (3件):
F17C 1/10 ,  C23G 1/08 ,  C23G 1/10
Fターム (25件):
3E072AA01 ,  3E072BA07 ,  3E072CA04 ,  3E072CA05 ,  3E072CA06 ,  4K053PA02 ,  4K053PA03 ,  4K053PA10 ,  4K053PA18 ,  4K053RA13 ,  4K053RA21 ,  4K053RA22 ,  4K053RA23 ,  4K053RA25 ,  4K053RA28 ,  4K053RA45 ,  4K053RA46 ,  4K053RA49 ,  4K053RA52 ,  4K053RA68 ,  4K053SA12 ,  4K053SA13 ,  4K053TA13 ,  4K053TA15 ,  4K053TA19

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