特許

J-GLOBAL ID：200903009908810492

リソグラフィ投影装置および上記装置に使うためのレフレクタ組立体

発明者： フランク イェローン ピエテル シュールマンス ,  レヴィヌス ピエテル バッケル
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  山本 貴和 ,  岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-341826
公開番号（公開出願番号）：特開2004-134794
出願日： 2003年08月25日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：

【課題】リソグラフィ投影装置の放射線源が出す熱放射がこの装置の光学部品、特にコレクタに与える影響を小さくするために、放射性熱負荷を減少したコレクタを備えるリソグラフィ投影装置を提供すること。【解決手段】このリソグラフィ装置で放射線のビームを発生するための斜入射コレクタ(50)は、多数のレフレクタから成り、内レフレクタ(42、43)は外側が赤外線反射層(56)で被覆してあり、外レフレクタ(46)は外側が赤外線放射層(62)で被覆してある。レフレクタの背面に入射する赤外線(40)のかなりの量を反射し且つ外部に放射し、これによってコレクタ(50)の熱負荷を軽減し且つ放射冷却を向上する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置(1)であって、 放射線の投影ビーム(16)を作るための、放射線源(6)を備える照明システム(3、4)、 前記投影ビームをパターン化するために前記投影ビームによって照射するように、パターニング手段を保持する構成にした支持構造体(15)、 基板を保持するように構成した基板テーブル(20)、および 前記パターニング手段の被照射部分を基板の目標部分上に投影するように構成し且つ配置した投影システム(5)を含み、 前記投影装置が更に: 前記線源(6)または前記線源(6)の像付近に配置したレフレクタ組立体(10)を含み、該レフレクタ組立体(10)が前記線源(6)または前記線源の像が位置する光軸(47)の方向に伸びる少なくとも内および外レフレクタ(42、43、46)を含み、内レフレクタ(42、43)が外レフレクタ(46)より光軸(47)に近く、これらのレフレクタ(42、43、46)は各々内反射面(54)および外裏当て層(52)を有し、内レフレクタ(42、43)の裏当て層(52)は、0.1と100μmの間、好ましくは1と10μmの間の波長(40)に対して、0.7と0.99の間、好ましくは0.8と0.99の間の反射率を有する反射層(56)で覆われているリソグラフィ投影装置。

IPC (5件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G21K5/00 ,  G21K5/02

FI (5件)：

H01L21/30 531A ,  G03F7/20 503 ,  G21K1/06 B ,  G21K5/00 Z ,  G21K5/02 X

Fターム (7件)：

2H097AA02 ,  2H097BA02 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  5F046GA03 ,  5F046GB01 ,  5F046GD10