特許
J-GLOBAL ID:200903009910680865
有機EL素子とその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
特許業務法人快友国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-187598
公開番号(公開出願番号):特開2005-019407
出願日: 2004年06月25日
公開日(公表日): 2005年01月20日
要約:
【課題】透明陰極導電層の安定性を改善した有機EL素子と、その製造方法を提供することである。【解決手段】有機EL素子は、少なくとも陽極層、有機機能層および同時蒸着層を備える。有機機能層は陽極層上に位置し、同時蒸着層は有機機能層上に位置する。同時蒸着層は、金属層とMTiO3層(ここでMTiO3のMは金属層の材料を表す)を備え、金属層が主要陰極層となる。MTiO3層は、低仕事関数の金属と金属酸化物との同時蒸着によって形成され、陰極金属と同時蒸着層の密着性が向上し、陰極の導電性および保護を強化することができ、また高い屈折率を備えることから有機EL素子の光取出し量が増加する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
陽極層と、
前記陽極層上に位置する有機機能層と、
前記有機機能層上に位置しており、MTiO3層を含む同時蒸着陰極層と、
を少なくとも備えており、
前記Mが金属元素から選択されていることを特徴とする有機EL素子。
IPC (4件):
H05B33/26
, H05B33/10
, H05B33/14
, H05B33/28
FI (4件):
H05B33/26 Z
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/28
Fターム (7件):
3K007AB03
, 3K007AB11
, 3K007AB18
, 3K007CB01
, 3K007CC00
, 3K007DB03
, 3K007FA01
引用特許:
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