特許
J-GLOBAL ID：200903009915444957
ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-131210
公開番号（公開出願番号）：特開平10-319586
出願日： 1997年05月21日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：
【要約】【課題】 ハーフトーン型位相シフトマスクとフォーカス移動させながら多重露光する方法を組み合わせた超解像技術に好適であり、高い感度、解像力を有し、優れた断面形状のレジストパターンを形成でき、サイドローブ光によるパターンの膜減りが生じないで、デフォーカスラチチュードが広い微細なコンタクトホールをあけるのに適したポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 特定の性質を有する、アルカリ可溶性樹脂、感光剤及びポリヒドロキシ化合物を含み、ハーフトーン型位相シフトマスクを用いて、フォーカス移動させながら多重露光する方法によりパターン露光するためのポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂、感光剤及びポリヒドロキシ化合物を含み、ハーフトーン型位相シフトマスクを用いて、フォーカス移動させながら多重露光する方法によりパターン露光するためのポジ型フォトレジスト組成物であって、(a) 前記アルカリ可溶性樹脂が、2,3-キシレノール、2,5-キシレノール、3,5-キシレノール、2,3,5-トリメチルフェノール及びチモールから選ばれる少なくとも1種のモノマーを全モノマー成分中15モル%以上含有するフェノール類とアルデヒド類との縮合反応により得られ、重量平均分子量が2500〜10000の範囲であり、分散度(重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnの比) が1.5〜4.0であり、(b) 前記感光剤が、芳香環及び脂肪族環のトータル数が3〜7個でありかつ3〜5個のフェノール性水酸基を有し、該3〜5個のフェノール性水酸基の各々が隣接した炭素原子に置換しておらず、フェノール性水酸基の数が全芳香環の数及び脂肪族環のトータル数に対して0.60〜1.0の範囲にあり、融点が130°C以上であるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルであり、(c) 前記ポリヒドロキシ化合物が、200〜1000の範囲の分子量であり、水酸基が2〜7個有するポリヒドロキシ化合物であることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/022 601
, C08L 61/10
, G03F 1/08
, G03F 7/023 511
G03F 7/022 601
, C08L 61/10
, G03F 1/08 A
, G03F 7/023 511
