特許

J-GLOBAL ID：200903009941573676

液晶表示装置とその製造方法

発明者： 小野 記久雄 ,  小川 和宏
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 鵜沼 辰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-272667
公開番号（公開出願番号）：特開平5-107560
出願日： 1991年10月21日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：

【要約】【目的】 同一基板上に表示領域と周辺回路領域を持つ液晶表示装置を実現すること。【構成】 周辺回路を構成するTFTのチャネル領域と接するゲ-ト絶縁膜33は酸素を含む絶縁膜、画素部を構成するTFTのチャネル領域と接するゲ-ト絶縁膜32は酸素を含まない絶縁膜で構成。【効果】 酸素を含むことにより、周辺回路を構成するTFTのチャネル領域をレ-ザ照射で形成した多結晶シリコンとしても、オフ電流の増加を抑えられる。

請求項（抜粋）：

透明絶縁基板間に液晶を封入した複数の画素からなる画素領域と、前記画素を駆動する駆動回路を構成した周辺回路領域に、半導体素子の構成要素として、絶縁基板上に設けられたゲ-ト電極、ゲ-ト絶縁膜、チャネル領域、ソ-ス領域及びドレイン領域とを備えた薄膜半導体素子構造の液晶表示装置において、前記周辺回路領域の半導体層と接しているゲ-ト絶縁膜と前記画素領域の半導体素子のゲ-ト絶縁膜が異種材料からなることを特徴とする液晶表示装置。

IPC (4件)：

G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1345 ,  H01L 27/12 ,  H01L 29/784

FI (2件)：

H01L 29/78 311 C ,  H01L 29/78 311 G