特許
J-GLOBAL ID：200903009955543095
基板処理システムの基板上の汚染を低減する方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-561648
公開番号（公開出願番号）：特表2002-521815
出願日： 1999年07月20日
公開日（公表日）： 2002年07月16日
要約：
【要約】【課題】 基板上の汚染を低減する方法及び装置【解決手段】 本装置は、基板支持体と、基板支持体を取り囲むガス指向シールドと、板支持体及びガス指向シールドの縦方向上に配置され基板を保持するためのシのャドウリングと有している。基板支持体は、エッジパージガスと裏面パージガスを提供するため2組のポートを有している。ガス指向シールドと基板支持体は、エッジパージガスを提供する一方の組立体のポートと一致する環状のチャンネルを画する。このエッジパージガスが基板上に載置されている基板のエッジに力を作用させることにより、基板を持ち上げて基板支持体から離しシャドウリングに対して押しつける。シャドウリングは、放射方向内向きに伸びる内側リップと、この内側リップの下に配置される複数の中心だしタブとを有している。この中心だしタブにより、基板が基板支持体及びシャドウリングに対して軸方向の調心が保持される。
請求項（抜粋）：
基板処理システム内の基板の汚染を低減するための装置であって、 基板支持体と、 基板支持体を取り囲むガス指向シールドと、 基板支持体及びガス指向シールドの垂直方向上方に配置されるシャドウリングとを備える装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/205
, C23C 16/44 J
4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030KA12
, 4K030KA45
, 4K030LA15
, 5F045AC15
, 5F045AC16
, 5F045BB14
, 5F045CB10
, 5F045EB02
, 5F045EE14
, 5F045EE20
, 5F045EF15
, 5F045EF17
, 5F045EM07
