特許
J-GLOBAL ID:200903009981727048

新規ジベンゾイルメタン誘導体とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 細田 芳徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-350176
公開番号(公開出願番号):特開平9-169699
出願日: 1995年12月21日
公開日(公表日): 1997年06月30日
要約:
【要約】【解決手段】4-tert-ブチル-4’-(2-メタクリロイルオキシエトキシ)ジベンゾイルメタンおよび4-tert-ブチル-4’-(2-ヒドロキシエトキシ)ジベンゾイルメタン並びにこれらの製造方法。【効果】本発明により、UV-A領域に吸収能を有する新規化合物である4-tert-ブチル-4’-(2-メタクリロイルオキシエトキシ)ジベンゾイルメタンを提供することができる。また、本発明の製造方法によれば、4-tert-ブチル-4’-(2-ヒドロキシエトキシ)ジベンゾイルメタンを用いることにより側鎖のヒドロキシル基を重合活性のあるメタクリロイルオキシ基に容易に変換することができる。
請求項(抜粋):
4-tert-ブチル-4’-(2-メタクリロイルオキシエトキシ)ジベンゾイルメタン。
IPC (9件):
C07C 69/54 ,  C07C 45/72 ,  C07C 49/84 ,  C07C 67/08 ,  C07C 67/14 ,  C09K 3/00 104 ,  C07B 61/00 300 ,  C09D 5/32 PSG ,  C09D 11/00 PSW
FI (9件):
C07C 69/54 Z ,  C07C 45/72 ,  C07C 49/84 E ,  C07C 67/08 ,  C07C 67/14 ,  C09K 3/00 104 Z ,  C07B 61/00 300 ,  C09D 5/32 PSG ,  C09D 11/00 PSW

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